Российские специалисты создали установку электронно-лучевой литографии с технологическим процессом 150 нм, главной особенностью которого стала работа в безмасочном режиме. Об этом сообщает профильный портал CNews.
За разработку отвечали специалисты «Зеленоградского нанотехнологического центра». «Сейчас два опытных образца проходят комплекс испытаний, которые продлятся около четырех месяцев. После этого начнутся испытания на точность изображения и другие технологические параметры», — рассказал генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев.
Ключевая особенность установки — безмасковая литография. В отличие от фотолитографии, где рисунок переносится через фотошаблон, электронно-лучевая литография формирует изображение непосредственно на подложке с помощью сфокусированного пучка электронов. Это позволяет изготавливать фотошаблоны и создавать рисунок на кремниевых и других подложках без использования маски, что критически важно для производства опытных партий, прототипов и специализированных малотиражных микросхем.