Мелитополь, 24 марта — ЗАН. Компания-резидент особой экономической зоны «Технополис Москва» создала первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров. Об этом сообщил мэр Москвы Сергей Собянин.
«В мире меньше 10 стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства», — написал он в телеграм-канале.
Российская установка серьезно отличается от зарубежных аналогов. Впервые в качестве излучения использовали не ртутную лампу, а твердотельный лазер — мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром.
«На фотолитограф уже есть заказчик. Ведется адаптация технологических процессов к особенностям производства конечного потребителя. Также сейчас идет разработка фотолитографа с разрешением 130 нанометров. Завершить его планируется в 2026 году», — добавил мэр столицы.
Фотолитография — метод получения заданного рисунка на поверхности материалов, чаще всего кремниевых пластин. Применяется в микроэлектронике для создания полупроводников.
На прошлой неделе стало известно, что российский производитель создал первую в стране установку для плазмохимического осаждения на кремниевых пластинах диаметром 300 мм.