Научно-исследовательские институты, входящие в группу компаний «Элемент», завершили создание первых в России систем для плазмохимического осаждения и травления, которые позволяют производить микросхемы по топологическим нормам 65 нм на пластинах диаметром 200 мм и 300 мм.
Установки для уровня 65 нм на пластинах 300 мм обеспечат в том числе перспективную потребность отечественной микроэлектроники, отметил замминистра промышленности и торговли РФ Василий Шпак. По его словам, особую ценность представляет модульность платформы, поскольку она позволяет отрабатывать процессы на существующем оборудовании и служит основой для перехода к более тонким техпроцессам.
Читайте также: В России создали плазмохимическую установку для кремниевых пластин на 300 мм
«Основным исполнителем проекта выступил НИИМЭ, который обеспечил строительство чистых производственных помещений, монтаж и подключение опытных образцов оборудования, разработку технологических процессов и их испытания. НИИТМ, в свою очередь, стал основным соисполнителем, разработав само оборудование и приняв участие в проведении испытаний», — цитирует «Ведомости» пресс-службу ГК «Элемент».
Ранее в МФТИ сообщили, что создали машину для литографии по техпроцессу 150 нм.